目錄:華兆科技(廣州)有限公司>>半導體設備>>原子層沉積設備ALD>> Fiji ALD原子層沉積系統
| 價格區間 | 面議 | 應用領域 | 化工,生物產業,電子/電池,航空航天,綜合 |
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Fiji ALD原子層沉積系統是一種模塊化、高真空熱原子層沉積系統,采用靈活的架構和多種前驅體和等離子體氣體配置,可適應各種沉積模式。Fiji ALD是下一代 ALD 系統,能夠執行熱成像和等離子體增強沉積。
我們應用了的計算流體力學分析,優化Fiji ALD反應堆、加熱器和陷阱幾何結構。系統的直觀界面使得監控和根據需要更改配方和流程變得輕松。
Fiji ALD原子層沉積系統的功能包括:
專有腔室渦輪泵系統
改進等離子體設計
人體工學界面
原位橢偏度
原位石英晶體微觀天平
綜合臭氧
手套箱接口
Fiji ALD提供最多六條前驅體管線,可容納固體、液體或氣體前驅體,以及六條等離子體氣體管線,在緊湊且經濟的占地內提供顯著的實驗靈活性。