LZD系列離子注入系統配置一套高能氣體離子源和一套高能金屬離子源，可實現不同氣體離子和不同金屬離子的單元素、多元素或混合元素注入。LZD系列離子注入系統配置移動式加熱和水冷樣品平臺，可對注入樣品進行加熱或冷卻處理。適用于實驗研究和小量樣品試驗。

基本配置

• 真空室：直徑600 * 長度800mm，臥式安裝，單層304不銹鋼。頂部設計氣體離子源和金屬離子源接管，側面設計分子泵接管，兩端大開門，方便樣品取放。

• 抽氣系統：FF250分子泵2000L/s + TRP90直連泵25L/s+高真空插板閥+擋板閥+管道。

• 離子源：高能金屬離子源一套，高能氣體離子源一套。                            

• 真空測量：數顯復合真空計。                    

• 送氣系統：一個截止閥+一個質量流量控制器和相關管道。                                         

• 樣品臺：水冷加熱兩用樣品臺一個，需手動更換樣品臺臺面。可平移定位到氣體離子源和金屬離子源正下方。

• 電源及控制系統：配備高能金屬離子源和氣體離子源電源，設備一體化機柜設計，PLC+PC控制系統。