Genesis ALD原子層沉積系統適用于電池、太陽能和柔性電子設備的功能性ALD涂層。Genesis ALD非常適合涂覆任何卷狀基材，并適用于多種功能應用。

Genesis ALD原子層沉積系統特點：

1.市場與應用

適用于電池、太陽能和柔性電子設備的功能性ALD涂層。Genesis ALD非常適合涂覆任何卷狀基材，并適用于多種功能應用。

各種鋰離子和固態電池陰極和陽極的鈍化

柔性太陽能電池的導電層與封裝

柔性電子設備的防潮層

2.材料選擇                                 

豐富的ALD材料選擇，滿足您的需求。多年來，Beneq在研發和工業生產領域開創了卷對卷ALD系統。我們的常用材料包括鋁氧化物、鈦氧化物、鋅氧化硫、氧化硫、氧化硅，或根據需求提供的其他材料。

3.特色亮點

網寬：最大420毫米                                            

鋁合金涂層厚度：最大100nm

動態沉積速率（Al2O3）：10 nm *m/min

工藝溫度：最高250°C

4.定制化

Genesis ALD最大寬度為420毫米，適合實驗室研發或試點規模生產。設計用于將ALD薄膜處理到聚合物或金屬等柔性基材上。