Beneq TFS 500 ALD原子層沉積系統是一款經過驗證且適應性強的ALD反應堆，適合高級研究和可靠的批次處理。作為Beneq反應堆系列的原始型號，它在多項目環境中展現了多功能性，使其成為多種薄膜涂層應用的堅固工具。 

Beneq TFS 500 ALD原子層沉積系統能夠處理多種基底——包括晶圓、平面物體和三維結構，并可定制手動作的載荷鎖、盒式裝載器或手套箱等選項，實現在惰性環境中的樣品處理。其靈活設計支持可更換的反應室，允許用戶根據不同應用需求優化系統。                

擴展能力以應對高要求的研究與生產 

基于TFS系列的多功能性，TFS 500設計可支持更大底物和批量，非常適合擴大研究項目規模和過渡到ALD試點生產。它始終以真正的原子層沉積模式提供高質量薄膜，滿足復雜研發項目的需求。 

優良等離子增強ALD（PEALD）

Beneq TFS 500的標準配置是直接和遠程PEALD由電容耦合等離子體（CCP）電源供電，這是ALD的行業標準。這使得從研發到生產的流程無縫轉移成為可能。TFS 500支持PEALD處理直徑最高300毫米的基底，確保對各種項目需求具有靈活性。          

憑借其可擴展性、精準性和靈活性，Beneq TFS 500是優良ALD研發的重要工具。