Beneq P400A ALD原子層沉積系統專為不同類型的基材進行優化批次尺寸的涂層而設計——體積足夠大以提供顯著容量，同時又足夠小以保持批次間優異的均勻性和短周期。我們的客戶使用P400A用于光學涂層以及ALD在玻璃或金屬板上的應用。

Beneq P400A ALD原子層沉積系統特點：

批次ALD

大小剛好。Beneq P400A 通常用于直徑從 20mm 到 300mm 不等的批次基底。批量配置可針對特定零件、片材、晶圓或其他基底進行優化。

設計與設置

每個客戶都是不同的。讓我們為您選擇并設計適合基材和應用的最佳工具配置和ALD工藝。

P400A的多功能設計使其可以輕松切換不同的反應室和基底支架。這意味著你可以用同一套ALD系統順利從研發過渡到批量生產。Beneq提供定制化的應用開發和試點生產支持，讓你在建立自己的ALD生產能力前先測試。

厚膠片堆疊

厚膠片堆（> 1微米）的理想ALD工具。大批量厚膜堆棧需要大量前驅物，同時產生大量殘渣和副產物。為應對這些挑戰，P400A配備了高容量前驅體源及前驅體去活化過濾系統。

經過35+年工業生產的開發成果，采用大量>1微米厚的膠片堆，Beneq P400A全天候可靠可靠。

前身

氧化物、氮化物、硫化物、金屬等。選擇合適的工藝和前體材料可能很棘手。什么時候使用高溫和低溫？前驅體材料使用安全嗎？

請我們的專家幫您找到適合您應用的材料或材料組合。Beneq P400A可從室溫升至550°C，輕松處理氣體、液體和固體前驅物，包括有毒、易燃和腐蝕性前驅物。

維護

維護更簡單，維護頻率也更低。ALD工具沉積厚厚的膠片堆通常需要每月清潔。P400A的高容量泵管過濾網使該工具即使在大規模生產中也能連續運行數月而無需維護。

更換ALD反應室可能需要一整天時間，因為需要冷卻，但P400A能將時間縮短到幾分鐘。其設計允許簡單地拉出反應室及其他需要清潔的部件。

多室設計

避免維護帶來不必要的停機時間。Beneq P400A 使用多個反應室，每次運行間持續切換。這可以最大限度地減少維護相關的生產停機時間。

預熱烤箱

Beneq的專有預熱器。可選的預熱烤箱縮短加熱時間，進一步提升您的產量。