Beneq P800 ALD原子層沉積系統專門設計用于涂覆復雜形狀的大件或大批量的小件。我們的客戶使用P800用于光學涂層、半導體設備部件的防腐蝕涂層，以及用于玻璃或金屬片的各種ALD應用。

大型零件需要大型ALD工具。Beneq P800 通常用于直徑大于 600mm 的批次零件。大批量生產能力還能降低小零件的成本，使ALD在許多應用領域具有商業可行性。

Beneq P800 ALD原子層沉積系統特點：

設計與設置

每個客戶都是不同的。我們根據每位客戶的基材和應用選擇并設計最佳工具配置及ALD工藝。P800的設計便于在不同反應室和底片支架之間切換。這種內置的多功能性意味著你可以用同一套ALD系統順利從研發過渡到批量生產。Beneq提供定制化的應用開發和試點生產支持，讓你在建立自己的ALD生產能力前先測試。

厚膠片堆疊

厚膠片堆（> 1微米）的理想ALD工具。大量厚膠片堆疊需要大量前驅物，并產生大量殘留物和副產物。我們設計了P800，配備了大容量前驅源和前驅體去活化過濾系統，以應對這些挑戰。Beneq P800 是經過35+年工業生產開發的成果，采用了大量>1微米厚的膠片堆。堅固可靠，全天候24小時。

前身

氧化物、氮化物、硫化物、金屬等。選擇合適的工藝和前體材料可能很棘手。什么時候使用高溫和低溫？前驅體材料使用安全嗎？請咨詢Beneq專家，幫你找到適合你應用的材料或材料組合。P800可從室溫溫度升至550°C，輕松處理氣態、液體和固體前驅物，包括有毒、縱火性和腐蝕性前驅物。

維護

維護更簡單，維護頻率也更低。ALD工具沉積厚厚的膠片堆通常需要每月清潔。P800的高容量泵管過濾網使該工具即使在大規模生產中也能運行數月而無需維護。另外，更換ALD反應室通常需要一整天，因為你需要先讓它們冷卻。P800設計將這一過程縮短到幾分鐘，用戶只需簡單地拉出反應室和其他需要清潔的部件即可。

多室設計

避免維護帶來不必要的停機時間。Beneq P800使用多個反應室，每次運行間持續更換，從而最大限度地減少維護相關的生產停機時間。

預熱烤箱

Beneq的專有預熱器。我們的可選預熱烤箱縮短加熱時間，進一步提升您的產量。