Beneq P1500 ALD原子層沉積系統(tǒng)是我們最大的ALD系統(tǒng)，專門用于涂層大片板材和復(fù)雜零件。它還設(shè)計(jì)用于提高批量較小部件的吞吐量。我們的客戶使用P1500用于大直徑基板的光學(xué)涂層、半導(dǎo)體設(shè)備部件的防腐蝕涂層，以及ALD在玻璃或金屬板上的各種應(yīng)用。

Beneq P1500 ALD原子層沉積系統(tǒng)特點(diǎn)：

規(guī)模

大型零件需要大型ALD工具。Beneq P1500 可容納尺寸高達(dá) 1300 毫米× 2400 毫米的零件，并支持在廣面積鏡面或透鏡上沉積高質(zhì)量且功能性的光學(xué)涂層。它也用于涂覆300至1000毫米尺寸的批量零件。

可能的基質(zhì)包括：

第四代到第六代顯示玻璃

光伏玻璃片

天文鏡

半導(dǎo)體腔室蓋、襯墊和淋浴噴頭

印刷電路板

提高小批次底物的通量

Beneq P1500 能夠擴(kuò)大批量生產(chǎn)規(guī)模，并為工作流程增加額外的涂層能力。

與小型批次工具相比，P1500可以大幅提升涂層的產(chǎn)量。此外，其大批量產(chǎn)能降低了小件涂層的成本，使ALD在許多應(yīng)用領(lǐng)域具有商業(yè)可行性。

設(shè)計(jì)與設(shè)置

每個(gè)客戶都是不同的。使用P1500，你可以選擇不同的反應(yīng)室和底物支架配置。讓我們?yōu)槟x擇并設(shè)計(jì)適合基材和應(yīng)用的最佳工具配置和ALD工藝。

多腔室功能

避免維護(hù)帶來(lái)不必要的停機(jī)時(shí)間。Beneq P1500使用多個(gè)反應(yīng)室，每次運(yùn)行間持續(xù)切換，從而最大限度地減少維護(hù)相關(guān)的生產(chǎn)停機(jī)時(shí)間。

厚度多樣性

按你需要的比例存入。大批量生產(chǎn)需要大量前驅(qū)物，并產(chǎn)生大量殘?jiān)透碑a(chǎn)物。為應(yīng)對(duì)這些挑戰(zhàn)，P1500配備了高容量前驅(qū)體源和前驅(qū)體去活化與過(guò)濾系統(tǒng)，用于沉積厚度從納米到微米級(jí)的膠片批次。

Beneq P1500是我們堅(jiān)固可靠的P系列最新車型，擁有35+年工業(yè)ALD批量生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)。

前身

P1500可從室溫加熱至400°C，輕松處理氣態(tài)、液體和固體前驅(qū)物，包括有毒、縱火性和腐蝕性前驅(qū)物。

預(yù)熱烤箱

Beneq的專有預(yù)熱器。我們的可選預(yù)熱烤箱縮短加熱時(shí)間，進(jìn)一步提升您的產(chǎn)量。