F-REX300XA CMP化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng)是進(jìn)一步提升生產(chǎn)效率、高性能且靈活的CMP設(shè)備                                                                                                          

F-REX300XA CMP化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng)配備了新開發(fā)的高效輸送機(jī)構(gòu)和WPH優(yōu)化算法。 采用單一工作臺(tái)、單頭和雙模塊系統(tǒng)，EBARA的高可靠性結(jié)構(gòu)得以保持，同時(shí)進(jìn)一步提升了生產(chǎn)力。 采用靈活的輸送機(jī)制和進(jìn)一步的交叉污染措施，以提升產(chǎn)量。 此外，它采用了易于修改和升級(jí)的模塊化結(jié)構(gòu)，因此未來(lái)功能擴(kuò)展時(shí)可以更快地引入新功能。

此外，F(xiàn)-REX300X車型降低了約10%的功耗，零件數(shù)量減少，從而降低了供應(yīng)鏈中的二氧化碳排放。 它支持更環(huán)保的半導(dǎo)體制造。CMP 是對(duì)晶圓表面進(jìn)行化學(xué)和機(jī)械拋光的設(shè)備，與無(wú)塵室兼容。