NanoFrazor 納米制造光刻系統是一款開創性的商業化熱掃描探針光刻（t-SPL）系統，旨在推動各類應用領域中的前沿研究與創新。無論是探索量子器件、一維/二維材料、量子點，還是納米尺度器件陣列，NanoFrazor 都能提供出色的精度與多功能性。其能力還可擴展至更復雜的挑戰，包括灰度光子學、納米流體結構、用于細胞生長的仿生基底，以及通過熱驅動的化學反應或物理相變實現的局部材料改性。

NanoFrazor 納米制造光刻系統主要功能

高分辨率納米圖案化：NanoFrazor 的核心是一種超鋒利且可加熱的探針，可實現復雜納米結構的同步寫入與檢測。通過閉環光刻（CLL）功能實現自校正圖案化。這一創新設計為構建精細復雜的圖案與結構提供了出色的精度。

直接激光升華（DLS）模塊：DLS 模塊通過在同一抗蝕劑層中以單一步驟高效寫入納米和微米結構，簡化了制備過程。這一集成設計優化了工作流程并提升了生產效率。

帶無標記套刻的原位成像：NanoFrazor 的原位成像技術實現了無標記套刻以及已寫入圖案與目標圖案的實時對比。這一獨特的閉環光刻（CLL）功能可確保優于 2 nm 的垂直精度，用于構建復雜的 2.5D（灰度）結構，并允許在寫入過程中即時調整參數。

十探針并行寫入：Decapede 功能支持使用 10 個可加熱探針進行并行寫入，在保持 NanoFrazor 著名精度的同時顯著提高通量。該功能非常適合大面積圖案化及對時間敏感的應用。

模塊化與可升級設計：NanoFrazor 的模塊化平臺允許廣泛定制，以滿足特定研究需求和實驗室環境。圖案化模式、機殼選項及軟件模塊均可靈活調整，實現優異的功能性與靈活性。隨著研究的發展，NanoFrazor 可通過添加額外模塊進行升級，確保長期適應性。

全面工藝支持：憑借 IBM Research Zürich 和 Heidelberg Instruments Nano 超過 20 年的研發經驗，NanoFrazor 用戶社區持續受益于硬件與軟件的不斷進步。用戶可獲取涵蓋刻蝕、剝離等圖案轉移工藝的完整最佳實踐與操作規范庫，從而確保各類應用的最佳效果。