EBPG 超高性能電子束光刻系統以高精度實現穩定可重復的工藝結果，確保在各類基底上獲得高器件良率，是該電子束光刻系統的核心設計準則。在此基礎上，EBPG 極其適用于量產工況、工業研發場景以及頂尖科研機構，可滿足各類對電子束光刻（EBL）性能有著嚴苛且無妥協要求的專業應用需求。                

EBPG 超高性能電子束光刻系統主要特征            

?5 納米以下高分辨率光刻工藝

?晶圓及多樣品自動曝光功能

?曝光參數自動切換與校準，可在高吞吐量模式（最高束流 350 納安）與高分辨率模式之間無縫穩定切換

?全球頂尖套刻精度                               

?超高速工件臺，穩定建立時間極短           

?雙工位 / 十工位自動氣鎖裝置          

?快速無差錯樣品對準                                    

?先進圖形裂解模式，實現低線邊緣粗糙度與最高圖形保真度         

?高效數據處理能力             

?簡易易學的圖形用戶界面與可腳本化終端界面

?支持多權限分級的安全多用戶運行環境