PicoMaster激光直寫光刻系統是高精度的無掩模光刻工具，適用于微結構制造，分辨率高達300nm（使用405nm激光）。該系統具備實時自動對焦功能，能處理大型高度差異的基板，并支持從5x5mm起的各種基板尺寸。設備緊湊，維護成本低，配備備用光學組件以減少停機時間。適用于研發、掩膜制作、全息原稿、微接觸印刷等多個領域。     

PicoMaster激光直寫光刻系統主要特性                                            

?最高可達 560 平方毫米 / 分鐘的高寫入速度                                

?保證 600 納米線寬與線間距                  

?無需降速即可實現 256 級灰度                                        

?適用于微技術應用的多功能設備                                

?三點對準功能                                                          

?全自動寫入視場校準                       

?可從 GDSII 文件自動識別基準標記位置