ATHOS激光光刻系統是專為全息應用設計的激光光刻系統系列。憑借最高分辨率、最佳性能、灰度能力和高通量，它是全息圖、OVD、菲涅爾透鏡等多種設備生成的最佳解決方案。

ATHOS激光光刻系統特別之處：

沒有側縫

得益于 RAITH 的 InfiniTrace 技術和 12 位動態范圍（4096 灰度），ATHOS Nano 消除了橫向拼接錯誤。你可以期待超光滑的表面和無縫過渡。

高級灰度平版印刷

RapidTrace技術集成了優異的舞臺機械、頂級光學和實時快速灰度曝光——使ATHOS Rapid能夠比以往更快更高效地書寫復雜圖案。

設計用于挑戰基底

借助基于混合自動對焦策略的OptiFly技術，ATHOS即使在最復雜的表面也能保持最佳對焦，適用于各種基材。

近電子束光刻級分辨率

ATHOS Nano 采用近電子束光刻（EBL）分辨率，無需滿足 EBL 系統的復雜性和基礎設施需求。

HoloSuite：RAITH先進的設計軟件設計

HoloSuite，我們先進的全息設計軟件，定義了全息主設計的新標準。它簡化了制作復雜灰度全息圖案的過程，只需幾次點擊。優秀的處理能力支持實時數據傳輸和即時曝光。

該設計軟件擁有多樣化的庫，能夠創建復雜且安全的全息設計。