SILAYO PEALD 光學涂層原子層沉積系統 參考價：面議
SILAYO PEALD 光學涂層原子層沉積系統擴展了 SENTECH ALD 和 PEALD 產品組合，適用于 330 毫米基底和三維基底的沉積。
AIX G5 WW C CVD化合物化學氣相沉積系統 參考價：面議
AIX G5 WW C CVD化合物化學氣相沉積系統是面向6 英寸 SiC 功率器件量產的行星式 MOCVD 設備，主打高產能、高均勻性與低成本，是車規級碳化硅...
MiniLab 090 PVD物理氣相沉積系統 參考價：面議
MiniLab 090 PVD物理氣相沉積系統兼容手套箱，適用于直徑達11英寸的亞態的環境敏感應用。高腔室非常適合高效蒸發，但磁控管濺射也可用。
NMC 508CG多晶硅等離子硅刻蝕機 參考價：面議
NMC 508CG多晶硅等離子硅刻蝕機適用6/8英寸多晶硅、硅等干法刻蝕工藝。具備良好的形貌控制能力、高刻蝕速率、高刻蝕均勻性、低顆粒/缺陷等性能優勢。該機臺為...
Nitride MBE Systems分子束外延系統 參考價：面議
Nitride MBE Systems分子束外延系統專門設計用于生長高質量的氮化物、鋁銨及相關氮化物材料。生長模塊設計用于處理高強度活性氮含量，并配備高溫基底加...
DWL 66+激光直寫光刻系統 參考價：面議
DWL 66+激光直寫光刻系統是高性價比、高分辨率的圖形發生器，適用于小批量掩膜版制作和直寫需求。該設備具有多種選配模塊，如對準系統、不同波長的激光發生器以及自...
布魯克Fourier 80核磁共振波譜分析儀 參考價：面議
布魯克Fourier 80核磁共振波譜分析儀是 80 MHz 臺式核磁共振波譜儀，無制冷劑，無需復雜設施，可直接裝于工作臺或通風柜。其支持 1H 及多核分析，分...
奧林巴斯OLS5500激光共聚焦顯微鏡 參考價：面議
奧林巴斯OLS5500激光共聚焦顯微鏡是一款屢獲殊榮的成像平臺，融合了激光掃描顯微鏡（LSM）、白光干涉儀（WLI）和聚焦變化顯微鏡（FVM）技術。 該產品專為...
Magritek Spinsolve臺式核磁共振波譜儀 參考價：面議
Magritek Spinsolve臺式核磁共振波譜儀是德國Magritek公司研發生產的永磁體核磁共振儀器，目前在世界范圍內廣泛用于化學及核磁共振等專業的教學...
華兆KZ-P2高精度柔性器件微電子打印機 參考價：面議
華兆KZ-P2高精度柔性器件微電子打印機是一臺氣動擠出直寫式的桌面級柔性電子器件制備工具，可在各類柔性或剛性襯底上用增材制造的方式制備出柔性電極、電路、電阻、柔...
華兆FDM-05六軸機器人3D打印機 參考價：面議
華兆FDM-05六軸機器人3D打印機由華兆科技（廣州）有限公司提供，產地為廣東，屬于國產熔融沉積成型3D打印機，符合多項國家和國際分析標準， 廣泛應用于醫療/健...
鉑力特BLT-S400 3D打印機 參考價：面議
鉑力特BLT-S400 3D打印機是工業級 SLM 金屬 3D 打印機，主打批量生產。支持 2-6×500W 激光配置，成型效率達 150cm3/h，成型尺寸 ...
織雀™系列 PL-3D Premium高精密微3D光刻機 參考價：面議
織雀?系列 PL-3D Premium高精密微3D光刻機， 最高光學分辨率可達1μm，支持最大50 mm×50 mm×50 mm的加工尺寸，設備還支持對準套刻功...
UV Litho-Y 無掩模光刻機 參考價：面議
UV Litho-Y 無掩模光刻機是一款桌面型無掩模版紫外光刻機，該機器具備了無掩模光刻機的諸多優點，桌面型的設計使其便于教學使用。不僅如此，該設備還針對教育場...
BIO 系列無掩模光刻機 參考價：面議
BIO 系列無掩模光刻機是生命科學版的無掩模紫外光刻機，該設備具有更高的深寬比，能滿足生命科學領域的特殊需求。它主要用于制備像微流控芯片之類的具有特定需求的樣品...
UV Litho-S+ 無掩模光刻系統 參考價：面議
UV Litho-S+ 無掩模光刻系統是高速版的無掩模版紫外光刻機，其配備了先進的高速空間光調制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機不僅保證了高精度和高靈活...
UV Litho-ACA Master無掩模光刻系統 參考價：面議
UV Litho-ACA Master無掩模光刻系統是科研版的無掩模版紫外光刻機，其基于空間光調制技術，實現了數字掩模光刻，優異的靈活性使其成為科學研究的選擇。...
奧林巴斯OLS5100激光共聚焦顯微鏡 參考價：面議
奧林巴斯OLS5100激光共聚焦顯微鏡專為失效分析和材料工程研究而設計，將出色的測量精度和光學性能與智能工具相結合，使顯微鏡使用起來更加方便。 它可以快速高效完...
Nanocrystal 大幅面納米光刻系統 參考價：面議
Nanocrystal 大幅面納米光刻系統是專門為納米光學結構制備而設計的無掩模光刻系統，配置了可連續變空頻的位相干涉系統，實現亞波長光學結構的亞納米調控精度制...
MiScan 高效混合直寫光刻系統 參考價：面議
MiScan 高效混合直寫光刻系統是為中國市場定制的先進曝光設備，提供多種光源選擇及靈活的運動平臺配置。其亮點在于高分辨率、精細的灰度等級以及精密的套刻對準精度...
Microlab 多功能直寫光刻系統 參考價：面議
Microlab 多功能直寫光刻系統是專門為基礎研究而設計的多功能直寫光刻系統，配置405nm長壽命光源，能夠在多種近紫外光刻膠制備幾乎任何需要的微結構，應用例...
iGrapher 大型紫外直寫光刻系統 參考價：面議
iGrapher 大型紫外直寫光刻系統是專門為在大尺寸基片（米級幅面）上進行快速并高品質圖形化而設計的大型直寫光刻系統，iGrapher1000~3000，覆蓋...
ATHOS激光光刻系統 參考價：面議
ATHOS激光光刻系統是專為全息應用設計的激光光刻系統系列。憑借最高分辨率、最佳性能、灰度能力和高通量，它是全息圖、OVD、菲涅爾透鏡等多種設備生成的最佳解決方...
PicoMaster激光直寫光刻系統 參考價：面議
PicoMaster激光直寫光刻系統融合了高精度、高速度與強適配性，可滿足嚴苛的微納加工制造需求。從科研實驗室到半導體量產領域，PICOMASTER XF 可推...
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