PlasmaPro 80 RIE反應離子刻蝕設備 參考價：面議
PlasmaPro 80 RIE反應離子刻蝕設備是一種結構緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保...
PlasmaPro 100 RIE反應離子刻蝕設備 參考價：面議
PlasmaPro 100 RIE反應離子刻蝕設備可為多種材料提供各向異性干法刻蝕工藝。
UNIPOL-1203 CMP化學機械拋光系統 參考價：面議
UNIPOL-1203 CMP化學機械拋光系統，適用于CMP平坦化和平滑化工藝技術， 整機研磨部分采用防腐材料，耐化學腐蝕，配置自動滴料器和精密磨拋控制儀，全自...
CAPSTONE CS200-ma CMP化學機械拋光系統 參考價：面議
CAPSTONE CS200-ma CMP化學機械拋光系統是 Axus Technology 推出的下一代 CMP 處理工具，具有市場上優良的晶圓拋光性能，適用...
CAPSTONE CS200-ia CMP化學機械拋光系統 參考價：面議
CAPSTONE CS200-ia CMP化學機械拋光系統是 Axus Technology 的下一代 CMP 處理工具，具有市場上優良的晶圓拋光性能，適用于 ...
CAPSTONE CS200-Sa CMP化學機械拋光系統 參考價：面議
CAPSTONE CS200-Sa CMP化學機械拋光系統是 Axus Technology 的下一代 CMP 處理工具，具有市場上優良的晶圓拋光性能，適用于 ...
F-REX300XA CMP化學機械拋光系統 參考價：面議
F-REX300XA CMP化學機械拋光系統是進一步提升生產效率、高性能且靈活的CMP設備
CMP Orbis System化學機械拋光系統 參考價：面議
高效且可重復的結果在化學機械平坦化（CMP）工藝中至關重要，尤其是在試點生產和科研環境中。CMP Orbis System化學機械拋光系統是一款精密設計的落地式...
GnP GPC-300A CMP化學機械拋光系統 參考價：面議
韓國GnP GPC-300A CMP化學機械拋光系統是一臺可以自動拋光和清潔300毫米晶圓的機器。
GNP POLI-400L CMP化學機械拋光系統 參考價：面議
GNP POLI-400L CMP化學機械拋光系統設計用于高級 CMP 工藝開發應用，如 MEMS 以及 CMP 特性研究。該系統擁有成本低，占地面積小。
GNP POLI-500 CMP化學機械拋光系統 參考價：面議
GNP POLI-500 CMP化學機械拋光系統用于4英寸、6英寸和8英寸晶圓，廣泛應用于耗材供應商、基板制造商和芯片開發商的8英寸（200毫米）高級研發評估。...
GNP POLI-762 CMP化學機械拋光系統 參考價：面議
GNP POLI-762 CMP化學機械拋光系統旨在實現12英寸（300毫米）CMP工藝開發、材料評估和前期生產運行的高多功能性。GNP POLI-762 也為...
AP300 CMP化學機械拋光系統 參考價：面議
AP300 CMP化學機械拋光系統是一款科研級的CMP系統，采用CTS公司工業級的設計理念，為科研工作者及優良制程開發公司提供了一套研究級別的設備，可兼容4寸，...
Universal-300B CMP化學機械拋光系統 參考價：面議
Universal-300B CMP化學機械拋光系統是基于華海清科自主知識產權的創新技術開發的12英寸CMP裝備。該裝備配備性能優異的拋光單元，兼容4/6/8/...
Universal-S300 CMP化學機械拋光系統 參考價：面議
Universal-S300 CMP化學機械拋光系統是面向行業前沿需求，開發的一款集優良拋光工藝、高效率、高穩定性于一體的12英寸CMP裝備。
TriboLab CMP化學機械拋光系統 參考價：面議
TriboLab CMP化學機械拋光系統用其前身產品 （Bruker CP-4） 超過 20 年的 CMP 領域專業知識，為業界突出的 TriboLab 平臺帶...
Universal-H300 CMP化學機械拋光系統 參考價：面議
Universal-H300 CMP化學機械拋光系統是華海清科面向行業前沿需求，開發的一款集優良拋光工藝、高效率、高穩定性于一體的12英寸CMP裝備。
MBE 8000分子束外延系統 參考價：面議
MBE 8000分子束外延系統旨在滿足高性能復合半導體器件日益增長的需求。這種8×6'或4×8'固態源MBE系統，在超高真空環境中使用超純金屬，在設計、溫度均勻...
MBE 6000分子束外延系統 參考價：面議
MBE 6000分子束外延系統是全球每個成功的大批量商家或內部 epi 操作的核心。它是高通量和可重復性的MBE基準?；顒訒r間通常超過一年，這證明了反應堆的穩定...
MBE 49分子束外延系統 參考價：面議
MBE 49分子束外延系統有四臺反應器，專門用于沉積砷化物、磷化物、氮化物和氧化物。這些行業前沿的機器容量為200毫米、150毫米、四片4英寸晶圓或五片3英寸晶...
MBE 412分子束外延系統 參考價：面議
MBE 412分子束外延系統憑借全自動樣品轉移、12源端口靈活性以及無論材料系統如何均可重復的晶圓制造質量的epi，412設計以實現這些目標。從基礎材料研究到設...
AIX 2800G4-TM CVD化合物化學氣相沉積系統 參考價：面議
AIX 2800G4-TM CVD化合物化學氣相沉積系統是面向GaAs/InP 光電器件與射頻器件的量產型行星式 MOCVD 設備，主打高均勻性、高產能與低單片...
AIX G5+ C CVD化合物化學氣相沉積系統 參考價：面議
AIX G5+ C CVD化合物化學氣相沉積系統是一類專門用于制備化合物半導體材料的設備，這些材料通常由兩種或多種元素組成，如GaAs、GaN和SiC等。這些材...
G10-ASP CVD砷化鎵化學氣相沉積系統 參考價：面議
G10-ASP CVD砷化鎵化學氣相沉積系統是面向GaAs/InP 基光電器件的全自動高性能 MOCVD 設備，主打高均勻、低缺陷、高產能，專為Micro LE...
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